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簡要描述：Eksma FEMTOLINE雙波長反射鏡飛秒應用的激光反射鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2026-02-07訪 問 量：1564詳細介紹
| 品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma FEMTOLINE雙波長反射鏡
Eksma FEMTOLINE雙波長反射鏡
飛秒應用的激光反射鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。
產(chǎn)品介紹
飛秒應用的激光反射鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。鍍膜是單層電介質(zhì)，在工作波長范圍內(nèi)沒有相移。
對于相同的電介質(zhì)鍍膜，對于S偏振，高反射率反射鏡始終具有更高的反射率，更寬的工作區(qū)域和更低的脈沖失真。 如果可能，請使用帶有S偏振光束的反射鏡。
我們的標準反射鏡適用于基本的Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器及其兩倍，三倍或四倍的頻率。推薦用于在UV區(qū)工作的高功率激光應用。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
BK7, ø12.7 x 3 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
051-4080 | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
051-4080-i0 | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
051-5103 | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
051-5103-i0 | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
BK7, ø12.7 x 6 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
051-4080T6 | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
051-4080T6-i0 | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
051-5103T6 | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
051-5103T6-i0 | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
BK7, ø25.4 x 6 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
052-4080 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
052-4080-i0 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
052-5103 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
052-5103-i0 | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
BK7, ø50.8 x 8 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
055-4080 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
055-4080-i0 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
055-5103 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
055-5103-i0 | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
BK7, ø76.2 x 12.7 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
057-4080 | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | |
057-4080-i0 | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
057-5103 | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
057-5103-i0 | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
UVFS, ø12.7 x 3 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
061-4080 | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
061-4080-i0 | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
061-5103 | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
061-5103-i0 | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
UVFS, ø12.7 x 6 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
061-4080T6 | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
061-4080T6-i0 | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
061-5103T6 | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
061-5103T6-i0 | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
UVFS, ø25.4 x 6 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
062-4080 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
062-4080-i0 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
062-5103 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
062-5103-i0 | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
UVFS, ø50.8 x 8 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
065-4080 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
065-4080-i0 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
065-5103 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
065-5103-i0 | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
UVFS, ø76.2 x 12.7 mm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | AOI | R, % (S+P)/2 |
067-4080 | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 390-410+780-820 nm | 45° | 99.5% |
067-4080-i0 | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 390-410+780-820 nm | 0° | 99.7% |
067-5103 | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 500-530+1000-1060 nm | 45° | 99.5% |
067-5103-i0 | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 500-530+1000-1060 nm | 0° | 99.7% |
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射率R> 99.5％ |
入射角 | 45±3° |
專為平均偏振而設計 | R =（Rs + Rp）/ 2 |
激光損傷閾值 | > 50 mJ / cm2，50 fsec，800 nm典型 |
基材
材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） |
S2表面質(zhì)量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
楔 | <3分鐘 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。
EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付
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